高純度鋁濺射靶材_愛發科電子材料（蘇州）有限公司

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高純度鋁濺射靶材
- 測試2
  
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- 量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800
  
  量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800
  
  NE-5700/NE-7800
  
  量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。
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- 高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H
  
  高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H
  
  NE-7800系列
  
  高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高難度刻蝕材料（強電介質層、貴金屬、磁性膜等）的Multi-Chamber型低壓高密度等離子刻蝕設備。
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- 研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570
  
  研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570
  
  NLD系列
  
  研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發科獨創的磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的裝置，此NLD技術可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。
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- 干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
  
  干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
  
  NE-950系列
  
  對應LED量產專用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發科獨自開發的星型電極的干法刻蝕設備。
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- 對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
  
  對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
  
  對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產用干法刻蝕裝置。（此愛發科獨創的NLD技術設備可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）
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- 設備(按類型分)
  
  高純度銅濺射靶材高純度鋁濺射靶材高純度鈦濺射靶材高純度鉬濺射靶材高純度鋁合金濺射靶材其他高純度材料濺射靶材
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