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高純度鋁濺射靶材
測試2
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量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800
量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800
NE-5700/NE-7800
量產用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。
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高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H
高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H
NE-7800系列
高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等器件所用的高難度刻蝕材料(強電介質層、貴金屬、磁性膜等)的Multi-Chamber型低壓高密度等離子刻蝕設備。
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研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570
研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570
NLD系列
研究開發向NLD干法刻蝕設備NLD-570,是搭載了愛發科獨創的磁性中性線(NLD- neutral loop discharge)等離子源的裝置,此NLD技術可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。
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干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
NE-950系列
對應LED量產專用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現了140%的生產力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發科獨自開發的星型電極的干法刻蝕設備。
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對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(NLD- neutral loop discharge)等離子源的量產用干法刻蝕裝置。(此愛發科獨創的NLD技術設備可實現產生低壓、低電子溫度、高密度的等離子)
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產品系列
設備(按類型分)
高純度銅濺射靶材
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