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高純度銅濺射靶材
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高純度銅濺射靶材
液晶面板,觸摸屏,太陽能電池用高純銅靶材??蓪畲蟪叽鏕10.5靶材。 以進口的高純銅為原料,加工制成純度高,晶粒結構均勻的靶材。先進的工藝控制不純物含量,減少鍍膜期間異物粒子的產生從而獲得低電阻,質量優的膜質。 提供各種平面濺射設備用靶材以及粘接服務。 主要用途:電極, 布線
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高純度鋁濺射靶材
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高純度鋁濺射靶材
液晶面板,觸摸屏,太陽能電池用高純鋁靶材??蓪畲蟪叽鏕10.5靶材。 以高純鋁為原料,通過壓延,熱處理等一系列加工工藝制成純度高,晶粒結構均勻的靶材。為使靶材初期放電穩定,對靶材表面進行特殊加工。通過嚴格控制靶材的氣相成分和晶粒度,從而提高靶材從使用初期到末期,膜厚,膜質以及放電穩定。提供各種平面濺射設備用靶材以及粘接服務。 主要用途:電極, 布線
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高純度鈦濺射靶材
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液晶面板,觸摸屏,太陽能電池用高純鈦靶材??蓪畲蟪叽鏕10.5靶材。 特殊熱工藝出理,消除內部應力,保證高粘接附著率。為防止異物粒子產生,對靶材非濺射區進行特殊加工以減少逆向膜產生。為使靶材初期放電穩定,對靶材表面進行特殊加工。提供各種平面濺射設備用靶材以及粘接服務。 主要用途:電極材料,阻隔層
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高純度鉬濺射靶材
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液晶面板,觸摸屏,太陽能電池用高純鉬靶材??蓪畲蟪叽鏕10.5靶材。 嚴格管理原料粉末的純度以及粒度分布,使靶材的品質穩定;高密度靶材提高放電過程穩定性。嚴格控制靶材晶粒度各向分布均勻性,保證鍍膜過程的穩定性。提供各種平面濺射設備用靶材以及粘結服務。 主要用途:導電保護層,阻隔層
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高純度鋁合金濺射靶材
高純度鋁合金濺射靶材
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靶材按其作用形式命名,材質非常廣泛,各種單金屬,合金和陶瓷都能用作靶材 靶材較對傳統材料行業要求高,主要對尺寸,平整度,純度,各項雜質含量,密度,晶粒尺寸與缺陷控制,表面粗糙度,電阻值,晶粒尺寸均勻性,成份與組織均勻性,氧化物含量,導磁率,超高密度,超細晶粒等等要求都各不相同。
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其他高純度材料濺射靶材
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可定制各種靶材,靶材按其作用形式命名,材質非常廣泛,各種單金屬,合金和陶瓷都能用作靶材 靶材較對傳統材料行業要求高,主要對尺寸,平整度,純度,各項雜質含量,密度,晶粒尺寸與缺陷控制,表面粗糙度,電阻值,晶粒尺寸均勻性,成份與組織均勻性,氧化物含量,導磁率,超高密度,超細晶粒等等要求都各不相同。
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