標準部件_愛發科電子材料（蘇州）有限公司

濺射靶材設備標準部件蒸發材料

其他高純度蒸發材料

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提供真空蒸發鍍膜材料，產品規格尺寸根據要求制作，通過對蒸發材表面進行特殊處理，抑制使用初期時異常放電的產生。嚴格控制不純物含量，以獲得高反射率的薄膜，鍍膜表面致密度，光潔度及其純度越好。主要用途：應用于半導體芯片背面金屬化
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高純度鈦蒸發材料

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提供真空蒸發鍍膜材料，產品規格尺寸根據要求制作，通過對蒸發材表面進行特殊處理，抑制使用初期時異常放電的產生。嚴格控制不純物含量，以獲得高反射率的薄膜，鍍膜表面致密度，光潔度及其純度越好。主要用途：應用于半導體芯片背面金屬化
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高純度鋁蒸發材料

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高純度銅蒸發材料

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產品系列

設備(按類型分)

高純度銅濺射靶材高純度鋁濺射靶材高純度鈦濺射靶材高純度鉬濺射靶材高純度鋁合金濺射靶材其他高純度材料濺射靶材
設備(按用途分)

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